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文献
J-GLOBAL ID:202002244477973727   整理番号:20A1884618

RFマグネトロンスパッタリング法で作製したZnO多結晶薄膜の残留光電流特性に及ぼす酸素アシスト再結合の影響

Influence of oxygen assisted recombination on persistent photocurrent characteristics of ZnO polycrystalline thin films prepared by RF magnetron sputtering
著者 (6件):
Worasawat Suchada
(Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan)
Worasawat Suchada
(Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan)
Neo Yoichiro
(Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan)
Hatanaka Yoshinori
(Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan)
Pecharapa Wisanu
(College of Nanotechnology, King Mongkut’s Institute of Technology Ladkrabang, Bangkok, 10520, Thailand)
Mimura Hidenori
(Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 59  号:ページ: 075505 (8pp)  発行年: 2020年07月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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