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文献
J-GLOBAL ID：202002246882366463
整理番号：20A1046860
1552nmフェムト秒レーザを用いたシリコン裏側表面のレーザ支援湿式エッチング
Laser-Assisted Wet Etching of Silicon Back Surfaces Using 1552 nm Femtosecond Laser
LUONG Khanh Phu
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
TANABE-YAMAGISHI Rie
(Fukuoka Inst. of Technol., Fukuoka, JPN)
,
YAMADA Noboru
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
ITO Yoshiro
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名：
International Journal of Electrical Machining
(International Journal of Electrical Machining)
号： 25 ページ： 7-13 発行年： 2020年03月
JST資料番号： L3380A ISSN： 1341-7908 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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