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文献
J-GLOBAL ID：202002247638098259
整理番号：20A1961611
界面活性剤添加KOHによるサブミクロントレンチの作製【JST・京大機械翻訳】
Fabrication of sub-micron trenches with surfactant-added KOH
Ekinci Huseyin
(Institute for Quantum Computing, University of Waterloo, Erzincan Binali Yildirim University,Department of Physics and Astronomy, Department of Physics, Art & Science Faculty,Waterloo, Erzincan,Canada, Turkey,N2L 3G1)
,
Cui Bo
(Electrical and Computer Engineering, University of Waterloo,Waterloo,Ontario,Canada,N2L3G1)
,
Pushin Dmitry
(Institute for Quantum Computing, University of Waterloo,Department of Physics and Astronomy,Waterloo,Canada,N2L 3G1)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020 号： NANO ページ： 172-175 発行年： 2020年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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