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文献
J-GLOBAL ID：202002247795343697
整理番号：20A0763591
Al_xCoCrFeNi高エントロピー合金膜の抵抗-温度挙動【JST・京大機械翻訳】
The resistivity-temperature behavior of Al x CoCrFeNi high-entropy alloy films
Wang Chenyu
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Li Xiaona
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Li Zhumin
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Wang Qing
(School of Materials Science and Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Zheng Yuehong
(State Key Laboratory of Advanced Processing and Recycling of Nonferrous Metals, Lanzhou University of Technology, Lanzhou 730050, China)
,
Ma Yue
(School of Materials Science and Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Bi Linxia
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Zhang Yuanyuan
(School of Materials Science and Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Yuan Xihui
(School of Materials Science and Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Zhang Xin
(School of Materials Science and Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Dong Chuang
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Liaw Peter K.
(Department of Materials Science and Engineering, University of Tennessee, Knoxville, TN 37996, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 700 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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