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文献
J-GLOBAL ID：202002248575746953
整理番号：20A0755982
半導体デバイスの製造品質を裏から支えるプロセスプラズマの隠れた技術 4.プラズマの負荷インピーダンスを利用したプロセス中の異常放電の検出技術
Micro-Arc Discharge Detection Method in Plasma Process by Monitoring Load Impedance
國家真治
(アドバンテスト)
,
佐藤周作
(アドバンテスト)
,
木村直也
(アドバンテスト)
,
若本悟
(アドバンテスト)
,
笠嶋悠司
(産業技術総合研 製造技術研究部門)
,
本村大成
(産業技術総合研 製造技術研究部門)
,
田原竜夫
(産業技術総合研 製造技術研究部門)
,
上杉文彦
(産業技術総合研 九州セ)
資料名：
プラズマ・核融合学会誌
(Journal of Plasma and Fusion Research)
巻： 96 号： 3 ページ： 117-121 発行年： 2020年03月25日
JST資料番号： G0114A ISSN： 0918-7928 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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