文献
J-GLOBAL ID:202002248642615047
整理番号:20A2450439
シリコンウエハの表面特性を改善するためのファジィTaguchi法を用いたawjプロセスの最適化【JST・京大機械翻訳】
Optimization of awj process using fuzzy taguchi method for improving surface characteristics of silicon wafer
著者 (2件):
Oliver Nesa Raj S
(Department of Mechanical Engineering, SRM Institute of Science and Technology, Kattankulathur, Chennai, India)
,
Prabhu S
(Department of Mechanical Engineering, SRM Institute of Science and Technology, Kattankulathur, Chennai, India)
資料名:
IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
(IOP Conference Series: Materials Science and Engineering)
巻:
912
号:
3
ページ:
032001 (13pp)
発行年:
2020年
JST資料番号:
W5559A
ISSN:
1757-8981
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)