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文献
J-GLOBAL ID：202002249694115211
整理番号：20A2506650
フォトニック集積回路の光学構造における損失最小化のためのフォトリソグラフィー最適化のためのソフトウェア複合体のための地上および問題ステートメント【JST・京大機械翻訳】
Grounds and problem statement for software complex for photolithography optimization for minimization of losses in optical structures of photonic integrated circuits
Sharapov A A
(JSC Molecular Electronics Research Institute, 12/1 Academician Valiev Street, Zelenograd, Moscow, 124460, Russia)
,
Shamin E S
(JSC Molecular Electronics Research Institute, 12/1 Academician Valiev Street, Zelenograd, Moscow, 124460, Russia)
,
Shamin E S
(Moscow Institute of Physics and Technology, 9 Institutskiy per., Dolgoprudny, Moscow Region, 141701, Russia)
,
Skuratov I D
(JSC Molecular Electronics Research Institute, 12/1 Academician Valiev Street, Zelenograd, Moscow, 124460, Russia)
,
Skuratov I D
(Moscow Institute of Physics and Technology, 9 Institutskiy per., Dolgoprudny, Moscow Region, 141701, Russia)
,
Gornev E S
(JSC Molecular Electronics Research Institute, 12/1 Academician Valiev Street, Zelenograd, Moscow, 124460, Russia)
資料名：
IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
(IOP Conference Series: Materials Science and Engineering)
巻： 939 号： 1 ページ： 012070 (8pp) 発行年： 2020年
JST資料番号： W5559A ISSN： 1757-8981 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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