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文献
J-GLOBAL ID：202002250225911879
整理番号：20A2119302
高性能フレキシブルエレクトロニクスのためのナノインデンテーション技術を用いた界面応力の定量的キャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】
Quantitative characterization of interface stress using a nanoindentation technique for high performance flexible electronics
Wang Xiumei
(Institute of Optoelectronic Display, National & Local United Engineering Lab of Flat Panel Display Technology, Fuzhou University, Fuzhou 350002, China. hpchen@fzu.edu.cn)
,
Zhang Guocheng
,
Yang Huihuang
,
Liu Yaqian
,
Chen Shaomin
,
Lin Zhixian
,
Chen Huipeng
,
Guo Tailiang
資料名：
Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices
(Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 8 号： 35 ページ： 12155-12163 発行年： 2020年
JST資料番号： W2383A ISSN： 2050-7526 CODEN： JMCCCX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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