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文献
J-GLOBAL ID：202002252838330077
整理番号：20A1069666
パルスDCスパッタMo薄膜の制御硫化によるMOS_2の成長【JST・京大機械翻訳】
Growth of MoS2 by controlled sulfurization of pulsed DC sputtered Mo thin films
Gupta Nanhe Kumar
(Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India)
,
Barwal Vineet
(Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India)
,
Pandey Lalit
(Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India)
,
Hait Soumyarup
(Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India)
,
Mishra Vireshwar
(Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India)
,
Kumar Amar
(Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India)
,
Chaudhary Sujeet
(Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India)
資料名：
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻： 2220 号： 1 ページ： 090023-090023-3 発行年： 2020年
JST資料番号： D0071C ISSN： 0094-243X 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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