文献
J-GLOBAL ID:202002253222772264
整理番号:20A0910346
HfO_2ベースFEFETにおけるインプリントとその回復に及ぼす電荷捕獲の影響【JST・京大機械翻訳】
Impact of Charge trapping on Imprint and its Recovery in HfO2 based FeFET
著者 (13件):
Higashi Y.
(Kioxia Corporation assigned at imec)
,
Di Piazza L.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Suzuki M.
(Kioxia Corporation assigned at imec)
,
Linten D.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Van Houdt J.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Ronchi N.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Kaczer B.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Banerjee K.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
McMitchell S. R. C.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
O’Sullivan B. J.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Clima S.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Minj A.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Celano U.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
IEDM
ページ:
15.6.1-15.6.4
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)