文献
J-GLOBAL ID:202002254037483533
整理番号:20A2130888
反応性マグネトロンスパッタリングにより作製した鉄ドープ窒化チタン薄膜における負性磁気抵抗【JST・京大機械翻訳】
Negative magnetoresistance in iron doped TiN thin films prepared by reactive magnetron sputtering
著者 (5件):
Maarouf Monzer
(Department of Physics, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran 31261, Saudi Arabia)
,
Haider Muhammad Baseer
(Department of Physics, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran 31261, Saudi Arabia)
,
Al-Kuhaili Mohammed Fayyad
(Department of Physics, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran 31261, Saudi Arabia)
,
Aljaafari Abdullah
(Department of Physics, College of Science, King Faisal University, 31982, Saudi Arabia)
,
Khan Javed Yar
(Department of Physics, College of Science, King Faisal University, 31982, Saudi Arabia)
資料名:
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
(Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻:
514
ページ:
Null
発行年:
2020年
JST資料番号:
H0644A
ISSN:
0304-8853
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)