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文献
J-GLOBAL ID：202002254119714315
整理番号：20A0143582
ケイ酸鉛ガラスマイクロチャネルプレートの電気的性質に及ぼす原子層堆積酸化アルミニウム膜の影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of atomic layer deposited aluminium oxide films on electrical properties of lead silicate glass microchannel plate
Cai Hua
(Key Lab. of China Building Materials Industry for Special Photoelectric Materials (China))
,
Jia Jinsheng
(China Building Materials Academy (China))
,
Liu Hui
(Key Lab. of China Building Materials Industry for Special Photoelectric Materials (China))
,
Sun Yong
(China Building Materials Academy (China))
,
Zhang Xian
(China Building Materials Academy (China))
,
Zhang Lei
(China Building Materials Academy (China))
,
Li Qing
(China Building Materials Academy (China))
,
Bo Tiezhu
(China Building Materials Academy (China))
,
Zhou Dongzhan
(China Building Materials Academy (China))
,
Lian Jiao
(China Building Materials Academy (China))
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 11334 ページ： 113340L-7 発行年： 2019年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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