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文献
J-GLOBAL ID：202002254915044818
整理番号：20A0007760
ボッシュエッチングプロセスのプロファイルによる貫通シリコンの特性評価のための分光反射測定【JST・京大機械翻訳】
Spectroscopic reflectometry for characterization of Through Silicon Via profile of Bosch etching process
Bauer Joachim
(Technical University of Applied Sciences Wildau, Hochschulring 1, 15745 Wildau, Germany)
,
Fursenko Oksana
(IHP-Leibniz-Institut fuer innovative Mikroelektronik, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), Germany)
,
Marschmeyer Steffen
(IHP-Leibniz-Institut fuer innovative Mikroelektronik, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), Germany)
,
Heinrich Friedhelm
(Technical University of Applied Sciences Wildau, Hochschulring 1, 15745 Wildau, Germany)
,
Villasmunta Francesco
(Technical University of Applied Sciences Wildau, Hochschulring 1, 15745 Wildau, Germany)
,
Villringer Claus
(Technical University of Applied Sciences Wildau, Hochschulring 1, 15745 Wildau, Germany)
,
Zesch Christoph
(Technical University of Applied Sciences Wildau, Hochschulring 1, 15745 Wildau, Germany)
,
Schrader Sigurd
(Technical University of Applied Sciences Wildau, Hochschulring 1, 15745 Wildau, Germany)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 37 号： 6 ページ： 062205-062205-6 発行年： 2019年
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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