文献
J-GLOBAL ID:202002258191250221
整理番号:20A0899543
発光源顕微鏡に基づく受動的相互変調源位置決め【JST・京大機械翻訳】
Passive Intermodulation Source Localization Based on Emission Source Microscopy
著者 (6件):
Yong Shaohui
(Electrical Engineering, EMC Laboratory, Missouri University of Science and Technology, Rolla, MO, USA)
,
Yang Sen
(Electrical Engineering, Missouri University of Science & Technology, Rolla, MO, USA)
,
Zhang Ling
(EMC Laboratory of Missouri S&T, Rolla, MO, USA)
,
Chen Xiong
(EMC Laboratory of Missouri S&T, Rolla, MO, USA)
,
Pommerenke David J.
(Electrical Engineering, Missouri University of Science & Technology, Rolla, MO, USA)
,
Khilkevich Victor
(Electrical Engineering, Missouri University of Science & Technology, Rolla, MO, USA)
資料名:
IEEE Transactions on Electromagnetic Compatibility
(IEEE Transactions on Electromagnetic Compatibility)
巻:
62
号:
1
ページ:
266-271
発行年:
2020年
JST資料番号:
H0383A
ISSN:
0018-9375
CODEN:
IEMCAE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)