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文献
J-GLOBAL ID：202002259567083360
整理番号：20A0484284
SiC基板上のエピタキシャルグラフェンの高安定性【JST・京大機械翻訳】
High Stability of Epitaxial Graphene on a SiC Substrate
Kujime Takaya
(Gaduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Taniguchi Yoshiaki
(Gaduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Taniguchi Yoshiaki
(Institute of Post-LED Photonics, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Akiyama Daiu
(Gaduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Kawamura Yusuke
(Gaduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Kanai Yasushi
(Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, Suita, 567-0047, Japan)
,
Matsumoto Kazuhiko
(Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, Suita, 567-0047, Japan)
,
Ohno Yasuhide
(Gaduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Ohno Yasuhide
(Institute of Post-LED Photonics, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Nagase Masao
(Gaduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Nagase Masao
(Institute of Post-LED Photonics, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
資料名：
Physica Status Solidi. B. Basic Solid State Physics
(Physica Status Solidi. B. Basic Solid State Physics)
巻： 257 号： 2 ページ： e1900357 発行年： 2020年
JST資料番号： C0599A ISSN： 0370-1972 CODEN： PSSBBD 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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