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文献
J-GLOBAL ID：202002261403861048
整理番号：20A1525004
異なるガス圧力での二重周波数円筒ICP源における放電アンテナターンとEEPFおよびプラズマパラメータの変調の最適化【JST・京大機械翻訳】
Optimization of discharge antenna turn and modulation of EEPFs and plasma parameters in dual-frequency cylindrical ICP source at different gas pressures
Hua Yue
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion, and Electron Beams, Dalian University of Technology, Ministry of Education, Dalian 116024, China)
,
Hao Zeyu
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion, and Electron Beams, Dalian University of Technology, Ministry of Education, Dalian 116024, China)
,
Ren Chunsheng
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion, and Electron Beams, Dalian University of Technology, Ministry of Education, Dalian 116024, China)
,
Song Jian
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion, and Electron Beams, Dalian University of Technology, Ministry of Education, Dalian 116024, China)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 128 号： 1 ページ： 013301-013301-15 発行年： 2020年
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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