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J-GLOBAL ID:202002262818246114   整理番号:20A2568025

二重プラズマ源を用いた化学支援スパッタリングによるGaN膜成長における原子窒素/水素の役割【JST・京大機械翻訳】

Roles of Atomic Nitrogen/Hydrogen in GaN Film Growth by Chemically Assisted Sputtering with Dual Plasma Sources
著者 (14件):
Tanide Atsushi
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
Nakamura Shohei
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
Nakamura Shohei
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
Horikoshi Akira
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
Takatsuji Shigeru
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
Kimura Takahiro
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
Kimura Takahiro
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
Kinose Kazuo
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
Nadahara Soichi
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
Nishikawa Masazumi
(EMD Corp, Shiga, Japan)
Ebe Akinori
(EMD Corp, Shiga, Japan)
Ishikawa Kenji
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
Oda Osamu
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
Hori Masaru
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)

資料名:
ACS Omega  (ACS Omega)

巻:号: 41  ページ: 26776-26785  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5044A  ISSN: 2470-1343  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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