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文献
J-GLOBAL ID：202002262818246114
整理番号：20A2568025
二重プラズマ源を用いた化学支援スパッタリングによるGaN膜成長における原子窒素/水素の役割【JST・京大機械翻訳】
Roles of Atomic Nitrogen/Hydrogen in GaN Film Growth by Chemically Assisted Sputtering with Dual Plasma Sources
Tanide Atsushi
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
,
Nakamura Shohei
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
,
Nakamura Shohei
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
,
Horikoshi Akira
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
,
Takatsuji Shigeru
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
,
Kimura Takahiro
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
,
Kimura Takahiro
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
,
Kinose Kazuo
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
,
Nadahara Soichi
(Rakusei Operation Center, SCREEN Holdings Co., Ltd., Japan)
,
Nishikawa Masazumi
(EMD Corp, Shiga, Japan)
,
Ebe Akinori
(EMD Corp, Shiga, Japan)
,
Ishikawa Kenji
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
,
Oda Osamu
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
,
Hori Masaru
(Center for Low-Temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Aichi, Japan)
資料名：
ACS Omega
(ACS Omega)
巻： 5 号： 41 ページ： 26776-26785 発行年： 2020年
JST資料番号： W5044A ISSN： 2470-1343 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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