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文献
J-GLOBAL ID：202002264592731454
整理番号：20A2454633
硬X線光学用の3D円形形状キノフォームレンズのためのグレースケール電子ビームリソグラフィーの研究【JST・京大機械翻訳】
A study of greyscale electron beam lithography for a 3D round shape Kinoform lens for hard X-ray optics
Tong Xujie
(Nanolithography and Application Research Group, School of Information Science and Engineering, Fudan University, Shanghai 200433, China)
,
Xu Chen
(Nanolithography and Application Research Group, School of Information Science and Engineering, Fudan University, Shanghai 200433, China)
,
Zhu Jingyuan
(Nanolithography and Application Research Group, School of Information Science and Engineering, Fudan University, Shanghai 200433, China)
,
Mao Chengwen
(Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai Advanced Research Institute, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201210, China)
,
Zhen Xiangjun
(Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai Advanced Research Institute, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201210, China)
,
Huang Wanxia
(Beijing Synchrotron Radiation Laboratory, Institute of High Energy, Beijing 100039, China)
,
Chen Yifang
(Nanolithography and Application Research Group, School of Information Science and Engineering, Fudan University, Shanghai 200433, China)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 234 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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