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文献
J-GLOBAL ID：202002264986222786
整理番号：20A2039146
Si-SiO_2界面における応力の理解と制御【JST・京大機械翻訳】
Understanding and Control of Stress at Si-SiO2 Interface
Kropman Daniel
(University of Tartu, Tartu Estonia W. Ostwaldi tn 1)
,
Seeman Viktor
(University of Tartu, Tartu Estonia W. Ostwaldi tn 1)
,
Medvids Arturs
(Riga Technical University, Institute of Technical Physics Faculty of Materials Science and Applied Chemistry Riga Latvia P. Valdena 3/7)
,
Onufrijevs Pavels
(Riga Technical University, Institute of Technical Physics Faculty of Materials Science and Applied Chemistry Riga Latvia P. Valdena 3/7)
,
Vitusevich Svetlana
(Bioelectronics (ICS-8), Forschungszentrum Juelich, Juelich Germany)
,
Mikli Valdek
(Tallinn University of Technology, Department of Materials and Environmental Technology Tallinn Estonia)
資料名：
Key Engineering Materials
(Key Engineering Materials)
巻： 850 ページ： 291-296 発行年： 2020年
JST資料番号： D0744C ISSN： 1013-9826 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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