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文献
J-GLOBAL ID：202002265138755582
整理番号：20A0377579
半導体製造におけるX線画像品質欠陥検出アルゴリズムの比較研究【JST・京大機械翻訳】
Comparison research on X-ray image quality defects detection algorithm in semiconductor manufacturing
Hou Hongyu
(The Key Lab of the Ministry of Education for Process Control & Efficiency Engineering, The school of management Xi’an Jiaotong University,Xi’an,China)
,
Wu Feng
(The Key Lab of the Ministry of Education for Process Control & Efficiency Engineering, The school of management Xi’an Jiaotong University,Xi’an,China)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019 号： SMILE ページ： 40-47 発行年： 2019年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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