文献
J-GLOBAL ID:202002266156391038
整理番号:20A2662539
エッチングにおける溶融シリカ上のスクラッチのレーザ損傷と発展法則【JST・京大機械翻訳】
Laser damage and evolution law of scratches on fused silica in etching
著者 (8件):
Lei Xiangyang
(China Academy of Engineering Physics (China))
,
Zheng Nan
(China Academy of Engineering Physics (China))
,
Chen Xianhua
(China Academy of Engineering Physics (China))
,
Zhou Lian
(China Academy of Engineering Physics (China))
,
Xu Xi
(China Academy of Engineering Physics (China))
,
Zhang Qinghua
(China Academy of Engineering Physics (China))
,
Wang Jian
(China Academy of Engineering Physics (China))
,
Yuan Zhigang
(China Academy of Engineering Physics (China))
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
11568
ページ:
115680D-6
発行年:
2020年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)