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文献
J-GLOBAL ID：202002267907678056
整理番号：20A2283641
薄膜形成中のマグネトロンスパッタリングプロセスの数学モデル化【JST・京大機械翻訳】
Mathematical Modelling of Magnetron Sputtering Process During Thin Films Formation
Malyukov S. P.
(Southern Federal University,Institute of Nanotechnologies, Electronics and Equipment Engineering,Taganrog,Russia)
,
Sayenko A. V.
(Southern Federal University,Institute of Nanotechnologies, Electronics and Equipment Engineering,Taganrog,Russia)
,
Zinovev S. S.
(Southern Federal University,Institute of Nanotechnologies, Electronics and Equipment Engineering,Taganrog,Russia)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020 号： RusAutoCon ページ： 368-373 発行年： 2020年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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