文献
J-GLOBAL ID:202002268788939482
整理番号:20A2488184
確率的欠陥低減のための代替EUVLレジストプロセス【JST・京大機械翻訳】
Alternative EUVL resist processes for stochastic defect reduction
著者 (8件):
Santillan Julius Joseph
(Osaka Univ. (Japan))
,
Harumoto Masahiko
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (Japan))
,
Stokes Harold
(SCREEN SPE Germany GmbH (Germany))
,
Mori Chisayo
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (Japan))
,
Tanaka Yuji
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (Japan))
,
Motono Tomohiro
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (Japan))
,
Asai Masaya
(Osaka Univ. (Japan))
,
Itani Toshiro
(Osaka Univ. (Japan))
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
11517
ページ:
1151718-6
発行年:
2020年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)