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文献
J-GLOBAL ID：202002268799096596
整理番号：20A1070520
O 1s閾値でのX線吸収分光法により明らかにされたNiO薄膜における陽イオン空孔の熱誘起枯渇【JST・京大機械翻訳】
Thermal induced depletion of cationic vacancies in NiO thin films evidenced by x-ray absorption spectroscopy at the O 1s threshold
Gutierrez Alejandro
(Departamento de Fisica Aplicada and Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, Cantoblanco, 28049 Madrid, Spain)
,
Dominguez-Canizares Guillermo
(Departamento de Fisica Aplicada and Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, Cantoblanco, 28049 Madrid, Spain)
,
Krause Stefan
(Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Albert-Einstein-Strasse 15, 12489 Berlin, Germany)
,
Diaz-Fernandez Daniel
(Departamento de Fisica Aplicada and Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, Cantoblanco, 28049 Madrid, Spain)
,
Soriano Leonardo
(Departamento de Fisica Aplicada and Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, Cantoblanco, 28049 Madrid, Spain)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 38 号： 3 ページ： 033209-033209-7 発行年： 2020年
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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