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J-GLOBAL ID:202002269751706336   整理番号:20A0428754

磁性Weyl半金属Co_3Sn_2S_2薄膜のエピタキシャル成長と輸送特性【JST・京大機械翻訳】

Epitaxial Growth and Transport Properties of Magnetic Weyl Semimetal Co3Sn2S2 Thin Films
著者 (18件):
Li Shuhui
(Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, China)
Li Shuhui
(School of Physics, University of Chinese Academy of Sciences, China)
Gu Gangxu
(Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, China)
Gu Gangxu
(School of Physics, University of Chinese Academy of Sciences, China)
Liu Enke
(Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, China)
Liu Enke
(Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Germany)
Cheng Peng
(Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, China)
Cheng Peng
(School of Physics, University of Chinese Academy of Sciences, China)
Feng Baojie
(Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, China)
Feng Baojie
(School of Physics, University of Chinese Academy of Sciences, China)
Li Yongqing
(Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, China)
Li Yongqing
(School of Physics, University of Chinese Academy of Sciences, China)
Li Yongqing
(Songshan Lake Materials Laboratory, Guangdong, China)
Chen Lan
(Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, China)
Chen Lan
(School of Physics, University of Chinese Academy of Sciences, China)
Wu Kehui
(Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, China)
Wu Kehui
(School of Physics, University of Chinese Academy of Sciences, China)
Wu Kehui
(Songshan Lake Materials Laboratory, Guangdong, China)

資料名:
ACS Applied Electronic Materials  (ACS Applied Electronic Materials)

巻:号:ページ: 126-133  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5669A  ISSN: 2637-6113  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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