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文献
J-GLOBAL ID：202002269798790345
整理番号：20A2707198
反応性高出力パルスマグネトロンスパッタリングによるα-(Al,Cr)_2O_3薄膜の低温堆積と硬度増強【JST・京大機械翻訳】
Low-temperature deposition and hardness enhancement of α-(Al,Cr)2O3 films by reactive high power pulsed magnetron sputtering
Cheng Yitian
(Institute of Intelligent Manufacturing Technology, Postdoctoral Innovation Practice Base, Shenzhen Polytechnic, Shenzhen, 518055, People’s Republic of China)
,
Cheng Yitian
(School of Materials Science and Engineering, Southeast University, Nanjing 210096, People’s Republic of China)
,
Chu Chenglin
(School of Materials Science and Engineering, Southeast University, Nanjing 210096, People’s Republic of China)
,
Zhou Peng
(Institute of Intelligent Manufacturing Technology, Postdoctoral Innovation Practice Base, Shenzhen Polytechnic, Shenzhen, 518055, People’s Republic of China)
,
Zhou Peng
(Department of Materials Science and Engineering, Southern University of Science and Technology, Shenzhen, 518055, People’s Republic of China)
資料名：
Materials Research Express
(Materials Research Express)
巻： 7 号： 11 ページ： 116407 (7pp) 発行年： 2020年
JST資料番号： W5570A ISSN： 2053-1591 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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