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文献
J-GLOBAL ID：202002270785936487
整理番号：20A2048779
ミストCVD法によるCu3VO4薄膜の形成における溶媒の影響
Effect of solvent in synthesis of Cu3VO4 thin film by mist CVD method
喜多正雄
(富山工高専)
,
大門貴寛
(富山工高専)
資料名：
日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2020 ページ： ROMBUNNO.1P198 発行年： 2020年03月02日
JST資料番号： X0505B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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