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文献
J-GLOBAL ID：202002270874940517
整理番号：20A2592943
マグネトロンスパッタの真空度が高マンガンケイ素の形態に及ぼす影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of background vacuum on the morphology of higher manganese silicide prepared by magnetron sputtering
Pan Wangheng
(貴州大学 大数据与信息工程学院,新型光電子材料与技術研究所,貴陽 550025)
,
Zhang Jinmin
(貴州大学 大数据与信息工程学院,新型光電子材料与技術研究所,貴陽 550025)
,
Xie Jie
(貴州大学 大数据与信息工程学院,新型光電子材料与技術研究所,貴陽 550025)
,
Feng Lei
(貴州大学 大数据与信息工程学院,新型光電子材料与技術研究所,貴陽 550025)
,
He Teng
(貴州大学 大数据与信息工程学院,新型光電子材料与技術研究所,貴陽 550025)
,
Wang Li
(貴州大学 大数据与信息工程学院,新型光電子材料与技術研究所,貴陽 550025)
,
Xiao Qingquan
(貴州大学 大数据与信息工程学院,新型光電子材料与技術研究所,貴陽 550025)
,
Xie Quan
(貴州大学 大数据与信息工程学院,新型光電子材料与技術研究所,貴陽 550025)
資料名：
Gongneng Cailiao
(Gongneng Cailiao)
巻： 51 号： 8 ページ： 183-188 発行年： 2020年
JST資料番号： C2095A ISSN： 1001-9731 CODEN： GOCAEA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 中国 (CHN) 言語： 中国語 (ZH)
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