文献
J-GLOBAL ID:202002270984665983
整理番号:20A2529164
熱アニーリングと照射下のNi/Ni_3Al多層膜の相安定性【JST・京大機械翻訳】
Phase Stability of Ni/Ni3Al Multilayers Under Thermal Annealing and Irradiation
著者 (5件):
Sun Cheng
(Idaho National Laboratory, Idaho Falls, ID, USA)
,
Maloy Stuart A.
(Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, NM, USA)
,
Baldwin Kevin
(Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, NM, USA)
,
Wang Yongqiang
(Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, NM, USA)
,
Valdez James A.
(Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, NM, USA)
資料名:
JOM
(JOM)
巻:
72
号:
11
ページ:
3995-4001
発行年:
2020年
JST資料番号:
C0321A
ISSN:
1047-4838
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)