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文献
J-GLOBAL ID：202002271939609494
整理番号：20A1246265
高伝導性酸化物SrMoO_3の分子ビームエピタクシー成長【JST・京大機械翻訳】
Molecular beam epitaxy growth of the highly conductive oxide SrMoO3
Takatsu Hiroshi
(Department of Energy and Hydrocarbon Chemistry, Graduate School of Engineering, Kyoto University, Kyoto 615-8510, Japan)
,
Yamashina Naoya
(Department of Energy and Hydrocarbon Chemistry, Graduate School of Engineering, Kyoto University, Kyoto 615-8510, Japan)
,
Shiga Daisuke
(Photon Factory, Institute of Materials Structure Science, High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba 305-0801, Japan)
,
Shiga Daisuke
(Department of Physics, Tohoku University, Sendai 980-8578, Japan)
,
Yukawa Ryu
(Photon Factory, Institute of Materials Structure Science, High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba 305-0801, Japan)
,
Horiba Koji
(Photon Factory, Institute of Materials Structure Science, High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba 305-0801, Japan)
,
Kumigashira Hiroshi
(Photon Factory, Institute of Materials Structure Science, High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba 305-0801, Japan)
,
Kumigashira Hiroshi
(Department of Physics, Tohoku University, Sendai 980-8578, Japan)
,
Terashima Takahito
(Department of Physics, Graduate School of Science, Kyoto University, Kyoto 606-8502, Japan)
,
Kageyama Hiroshi
(Department of Energy and Hydrocarbon Chemistry, Graduate School of Engineering, Kyoto University, Kyoto 615-8510, Japan)
資料名：
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻： 543 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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