前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：202002272997162268
整理番号：20A0950897
低温TSVライナー形成のためのオゾン-エチレンラジカル生成-TEOS-CVD SiO_2に及ぼす堆積温度とアニーリング条件の影響【JST・京大機械翻訳】
Impacts of Deposition Temperature and Annealing Condition on Ozone-Ethylene Radical Generation-TEOS-CVD SiO2 for Low-Temperature TSV Liner Formation
Liang Rui
(Graduate School of Biomedical Engineering, Tohoku University,Sendai,Japan)
,
Lee Sungho
(Graduate School of Biomedical Engineering, Tohoku University,Sendai,Japan)
,
Miwa Yuki
(Graduate School of Biomedical Engineering, Tohoku University,Sendai,Japan)
,
Kumahara Kousei
(Graduate School of Biomedical Engineering, Tohoku University,Sendai,Japan)
,
Mariappan Murugesan
(New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University,Sendai,Japan)
,
Kino Hisashi
(Frontier Research Institute for Interdisciplinary Sciences, Tohoku University,Sendai,Japan)
,
Fukushima Takafumi
(Graduate School of Engineering& New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University,Sendai,Japan)
,
Tanaka Tetsu
(Graduate School of Biomedical Engineering;, Graduate School of Engineering, Tohoku University,Sendai,Japan)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019 号： 3DIC ページ： 1-4 発行年： 2019年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。