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文献
J-GLOBAL ID：202002273645085908
整理番号：20A1020884
完全EUVマスクの発見:多層の役割【JST・京大機械翻訳】
Pathfinding the perfect EUV mask: the role of the multilayer
Mesilhy H.
(Fraunhofer-Institut fuer Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (Germany))
,
Evanschitzky P.
(Fraunhofer-Institut fuer Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (Germany))
,
Bottiglieri G.
(ASML Netherlands B.V. (Netherlands))
,
van Setten E.
(ASML Netherlands B.V. (Netherlands))
,
Fliervoet T.
(ASML Netherlands B.V. (Netherlands))
,
Erdmann A.
(Fraunhofer-Institut fuer Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (Germany))
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 11323 ページ： 1132316-16 発行年： 2020年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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