文献
J-GLOBAL ID:202002274556707752
整理番号:20A1751359
InFOUHD(超高密度)技術の応用と信頼性研究【JST・京大機械翻訳】
Applications and Reliability Study of InFO_UHD (Ultra-High-Density) Technology
著者 (7件):
Ko T.
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.,Hsinchu,R.O.C.)
,
Pu H. P.
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.,Hsinchu,R.O.C.)
,
Chiang Y.
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.,Hsinchu,R.O.C.)
,
Kuo H. J.
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.,Hsinchu,R.O.C.)
,
Wang C. T.
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.,Hsinchu,R.O.C.)
,
Liu C. S.
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.,Hsinchu,R.O.C.)
,
Yu Douglas C. H.
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.,Hsinchu,R.O.C.)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
ECTC
ページ:
1120-1125
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)