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文献
J-GLOBAL ID：202002275101931181
整理番号：20A2799205
種々の拘束下のSi薄膜のエピタキシャル成長のための適応Bayes最適化【JST・京大機械翻訳】
Adaptive Bayesian optimization for epitaxial growth of Si thin films under various constraints
Osada Keiichi
(Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)
,
Osada Keiichi
(Department of Materials Process Engineering, Nagoya University Graduate School of Engineering, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)
,
Kutsukake Kentaro
(Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)
,
Kutsukake Kentaro
(Center for Advanced Intelligence Project, RIKEN, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 103-0027, Japan)
,
Yamamoto Jun
(GlobalWafers Japan Co., Ltd., Seiro, Niigata 957-0197, Japan)
,
Yamashita Shigeo
(GlobalWafers Japan Co., Ltd., Seiro, Niigata 957-0197, Japan)
,
Kodera Takashi
(GlobalWafers Japan Co., Ltd., Seiro, Niigata 957-0197, Japan)
,
Nagai Yuta
(GlobalWafers Japan Co., Ltd., Seiro, Niigata 957-0197, Japan)
,
Horikawa Tomoyuki
(GlobalWafers Japan Co., Ltd., Seiro, Niigata 957-0197, Japan)
,
Matsui Kota
(Center for Advanced Intelligence Project, RIKEN, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 103-0027, Japan)
,
Takeuchi Ichiro
(Center for Advanced Intelligence Project, RIKEN, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 103-0027, Japan)
,
Takeuchi Ichiro
(Department of Computer Science, Nagoya Institute of Technology, Gokiso, Showa-ku, Nagoya 466-8555, Japan)
,
Ujihara Toru
(Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)
,
Ujihara Toru
(Department of Materials Process Engineering, Nagoya University Graduate School of Engineering, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)
資料名：
Materials Today Communications
(Materials Today Communications)
巻： 25 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： W3060A ISSN： 2352-4928 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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