文献
J-GLOBAL ID:202002276654352028
整理番号:20A2347738
3次元ナノ構造の位相シフトマスク設計とサイズの関係【JST・京大機械翻訳】
Relationship of phase shift mask design and size of three-dimension nanostructures
著者 (5件):
Sihapitak Pongsakom
(Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
,
Ishikawa Yasuaki
(College of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University,Sagamihara,Kanagawa,Japan,252-5258)
,
Wang Xudongfang
(Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
,
Uenuma Mutsunori
(Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
,
Uraoka Yukiharu
(Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
AM-FPD
ページ:
80-82
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)