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J-GLOBAL ID:202002276654352028   整理番号:20A2347738

3次元ナノ構造の位相シフトマスク設計とサイズの関係【JST・京大機械翻訳】

Relationship of phase shift mask design and size of three-dimension nanostructures
著者 (5件):
Sihapitak Pongsakom
(Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
Ishikawa Yasuaki
(College of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University,Sagamihara,Kanagawa,Japan,252-5258)
Wang Xudongfang
(Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
Uenuma Mutsunori
(Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
Uraoka Yukiharu
(Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2020  号: AM-FPD  ページ: 80-82  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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