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文献
J-GLOBAL ID：202002277280940831
整理番号：20A2051979
圧電材料の研究と応用 低圧スパッタ法により増大する負イオン照射がScAlN薄膜の結晶性と圧電性に及ぼす影響
冨永卓海
(同志社大)
,
高柳真司
(同志社大)
,
柳谷隆彦
(早稲田大)
資料名：
超音波Techno
(超音波テクノ)
巻： 32 号： 5 ページ： 17-22 発行年： 2020年10月01日
JST資料番号： L2344A ISSN： 0916-2410 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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