文献
J-GLOBAL ID:202002278018000672
整理番号:20A0980606
Cl_3SiSi(CH_3)_3蒸気におけるSi:_2p光イオン化に続くAuger崩壊中のサイト特異性の減少:原子間Coulomb崩壊様過程【JST・京大機械翻訳】
Site-specificity reduction during Auger decay following Si:2p photoionization in Cl3SiSi(CH3)3 vapor: An interatomic-Coulombic-decay-like process
著者 (3件):
Nagaoka Shin-ichi
(Department of Chemistry, Faculty of Science and Graduate School of Science and Engineering, Ehime University, Matsuyama 790-8577, Japan)
,
Takahashi Osamu
(Department of Chemistry, Graduate School of Science, Hiroshima University, Higashi-Hiroshima 739-8511, Japan)
,
Hikosaka Yasumasa
(Institute of Liberal Arts and Sciences, University of Toyama, Toyama 930-0194, Japan)
資料名:
Chemical Physics
(Chemical Physics)
巻:
534
ページ:
Null
発行年:
2020年
JST資料番号:
D0167B
ISSN:
0301-0104
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)