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文献
J-GLOBAL ID：202002278250323296
整理番号：20A1898653
RFマグネトロンスパッタリングによるフレキシブル基板に基づく薄膜熱電対の熱電特性に及ぼすアニーリング温度の影響【JST・京大機械翻訳】
Influences of annealing temperature on the thermoelectric properties of thin film thermocouples based on a flexible substrate by RF magnetron sputtering
Liu Zhaojun
(State Key Laboratory for Mechanical Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710049, People’s Republic of China)
,
Tian Bian
(State Key Laboratory for Mechanical Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710049, People’s Republic of China)
,
Liu Jiangjiang
(State Key Laboratory for Mechanical Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710049, People’s Republic of China)
,
Zhang Zhongkai
(State Key Laboratory for Mechanical Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710049, People’s Republic of China)
,
Lin Qijing
(State Key Laboratory for Mechanical Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710049, People’s Republic of China)
,
Mao Qi
(State Key Laboratory for Mechanical Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710049, People’s Republic of China)
,
Lu Dejiang
(State Key Laboratory for Mechanical Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710049, People’s Republic of China)
,
Jiang Zhuangde
(State Key Laboratory for Mechanical Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710049, People’s Republic of China)
資料名：
Measurement Science and Technology
(Measurement Science and Technology)
巻： 31 号： 9 ページ： 095101 (9pp) 発行年： 2020年
JST資料番号： C0354C ISSN： 0957-0233 CODEN： MSTCEP 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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