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文献
J-GLOBAL ID：202002278713822003
整理番号：20A2648082
飛行時間二次イオン質量分析としての高精度マッチング因子に基づく化学認識:ヒト法医学における痕跡化粧品残留物への応用【JST・京大機械翻訳】
Chemical recognition based on high-accuracy matching factors as per time-of-flight-secondary-ion mass spectrometry: Application to trace cosmetic residues in human forensics
Terlier Tanguy
(Advanced Analysis Center, Korea Institute of Science and Technology, Seoul 02792, Republic of Korea)
,
Terlier Tanguy
(SIMS Laboratory, Shared Equipment Authority, Rice University, Houston, TX 77005, United States)
,
Lee Kang-Bong
(National Agenda Research Division, Korea Institute of Science and Technology, Seoul 02792, Republic of Korea)
,
Lee Yeonhee
(Advanced Analysis Center, Korea Institute of Science and Technology, Seoul 02792, Republic of Korea)
資料名：
Microchemical Journal
(Microchemical Journal)
巻： 159 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： D0072A ISSN： 0026-265X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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