文献
J-GLOBAL ID:202002283826471066
整理番号:20A2223226
二段階プラズマエッチングプロセスによるUVC LEDの低抵抗n接触【JST・京大機械翻訳】
Low resistance n-contact for UVC LEDs by a two-step plasma etching process
著者 (10件):
Cho H K
(Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany)
,
Kang J H
(Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany)
,
Sulmoni L
(Technische Universitaet Berlin, Institute of Solid State Physics, Hardenbergstr. 36, EW 6-1, 10623, Berlin, Germany)
,
Kunkel K
(Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany)
,
Rass J
(Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany)
,
Susilo N
(Technische Universitaet Berlin, Institute of Solid State Physics, Hardenbergstr. 36, EW 6-1, 10623, Berlin, Germany)
,
Wernicke T
(Technische Universitaet Berlin, Institute of Solid State Physics, Hardenbergstr. 36, EW 6-1, 10623, Berlin, Germany)
,
Einfeldt S
(Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany)
,
Kneissl M
(Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany)
,
Kneissl M
(Technische Universitaet Berlin, Institute of Solid State Physics, Hardenbergstr. 36, EW 6-1, 10623, Berlin, Germany)
資料名:
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻:
35
号:
9
ページ:
095019 (5pp)
発行年:
2020年
JST資料番号:
E0503B
ISSN:
0268-1242
CODEN:
SSTEET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)