文献
J-GLOBAL ID:202002284725755995
整理番号:20A1608536
ゾル-ゲル法によるPVPをドープしたAl_2O_3-TiO_2薄膜の窒化【JST・京大機械翻訳】
Nitridation of Al2O3-TiO2 thin film doped with PVP by sol-gel method
著者 (5件):
WATANABE Yutaro
(Gifu Univ., Gifu, JPN)
,
BAN Takayuki
(Gifu Univ., Gifu, JPN)
,
TAKAI Chika
(Gifu Univ., Gifu, JPN)
,
OHYA Yutaka
(Gifu Univ., Gifu, JPN)
,
IBARAKI Yasuhiro
(Gifu Prefectural Industrial Technol. Center, Seki, JPN)
資料名:
日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻:
2019
ページ:
ROMBUNNO.28-P-S33-12
発行年:
2019年
JST資料番号:
L2240B
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)