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文献
J-GLOBAL ID：202002286658262714
整理番号：20A2579697
熱真空蒸発により作製したオプトエレクトロニクスデバイスに用いるナノ結晶シリコン薄膜の作製【JST・京大機械翻訳】
Fabrication of Nanocrystalline Silicon Thin Films Utilized for Optoelectronic Devices Prepared by Thermal Vacuum Evaporation
Abo Ghazala Magdy S.
(Physics Department, Faculty of Science, Menoufia University, Menoufia, Egypt)
,
Othman Hosam A.
(Physics Department, Faculty of Science, Menoufia University, Menoufia, Egypt)
,
Sharaf El-Deen Lobna M.
(Physics Department, Faculty of Science, Menoufia University, Menoufia, Egypt)
,
Nawwar Mohamed A.
(Physics Department, Faculty of Science, Menoufia University, Menoufia, Egypt)
,
Kashyout Abd El-hady B.
(Electronic Materials Department, Advanced Technology and New Materials Research Institute, City of Scientific Research and Technological Applications (SRTA-City), Alexandria, Egypt)
資料名：
ACS Omega
(ACS Omega)
巻： 5 号： 42 ページ： 27633-27644 発行年： 2020年
JST資料番号： W5044A ISSN： 2470-1343 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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