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J-GLOBAL ID:202002287760857744   整理番号:20A1870313

誘電障壁プラズマ放電における低温,大気圧逆水性ガスシフト反応,関連産業プロセス使用の展望【JST・京大機械翻訳】

Low-temperature, atmospheric pressure reverse water-gas shift reaction in dielectric barrier plasma discharge, with outlook to use in relevant industrial processes
著者 (7件):
Chaudhary Rohit
(Department of Chemical Engineering and Chemistry, Eindhoven University of Technology, PO Box No. 513, 5600MB, the Netherlands)
van Rooij Gerard
(Dutch Institute for Fundamental Energy Research (DIFFER), De Zaale 20, 5612 AJ Eindhoven, the Netherlands)
Li Sirui
(Department of Chemical Engineering and Chemistry, Eindhoven University of Technology, PO Box No. 513, 5600MB, the Netherlands)
Wang Qi
(Department of Chemical Engineering and Chemistry, Eindhoven University of Technology, PO Box No. 513, 5600MB, the Netherlands)
Hensen Emiel
(Department of Chemical Engineering and Chemistry, Eindhoven University of Technology, PO Box No. 513, 5600MB, the Netherlands)
Hessel Volker
(Department of Chemical Engineering and Chemistry, Eindhoven University of Technology, PO Box No. 513, 5600MB, the Netherlands)
Hessel Volker
(School of Chemical Engineering, The University of Adelaide, North Terrace, 5005 Adelaide, Australia)

資料名:
Chemical Engineering Science  (Chemical Engineering Science)

巻: 225  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: B0254A  ISSN: 0009-2509  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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