文献
J-GLOBAL ID:202002288509432748
整理番号:20A0030233
不活性基板上の合金薄膜における表面及び界面偏析に及ぼす応力の影響【JST・京大機械翻訳】
The effect of stress on surface and interface segregation in thin alloy films on inert substrates
著者 (3件):
Klinger Leonid
(Department of Materials Science and Engineering, Technion - Israel Institute of Technology, Haifa, Israel)
,
Wang Jiangyong
(Department of Physics, Shantou University, Shantou, Guangdong, China)
,
Rabkin Eugen
(Department of Materials Science and Engineering, Technion - Israel Institute of Technology, Haifa, Israel)
資料名:
Journal of Materials Science
(Journal of Materials Science)
巻:
55
号:
8
ページ:
3629-3635
発行年:
2020年
JST資料番号:
B0722A
ISSN:
0022-2461
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)