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文献
J-GLOBAL ID：202002289352322930
整理番号：20A1236170
分子ビームエピタクシーにより成長させた高スカンジウム分率ヘテロエピタキシャルスケールにおける相純度の制御
Control of phase purity in high scandium fraction heteroepitaxial ScAlN grown by molecular beam epitaxy
Hardy Matthew T.
(Electronics Science & Technology Division, U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Avenue SW, Washington DC 20375, United States of America)
,
Jin Eric N.
(National Research Council Postdoctoral Fellow Residing at the U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Avenue SW, Washington DC 20375, United States of America)
,
Nepal Neeraj
(Electronics Science & Technology Division, U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Avenue SW, Washington DC 20375, United States of America)
,
Katzer D. Scott
(Electronics Science & Technology Division, U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Avenue SW, Washington DC 20375, United States of America)
,
Downey Brian P.
(Electronics Science & Technology Division, U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Avenue SW, Washington DC 20375, United States of America)
,
Gokhale Vikrant J.
(National Research Council Postdoctoral Fellow Residing at the U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Avenue SW, Washington DC 20375, United States of America)
,
Storm David F.
(Electronics Science & Technology Division, U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Avenue SW, Washington DC 20375, United States of America)
,
Meyer David J.
(Electronics Science & Technology Division, U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Avenue SW, Washington DC 20375, United States of America)
資料名：
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻： 13 号： 6 ページ： 065509 (5pp) 発行年： 2020年06月
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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