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文献
J-GLOBAL ID：202002290728107708
整理番号：20A0496892
強化トンネル接合性能と熱安定性のためのデルタドーピング【JST・京大機械翻訳】
Delta-doping for enhanced tunnel junction performance and thermal stability
Sun Yukun
(Yale University,New Haven,CT,06520)
,
Fan Shizhao
(University of Illinois,Urbana-Champaign,IL,61801)
,
Jung Daehwan
(Korea Institute of Science and Technology,Seoul,South Korea)
,
Hool Ryan
(University of Illinois,Urbana-Champaign,IL,61801)
,
Li Brian
(University of Illinois,Urbana-Champaign,IL,61801)
,
Vaisman Michelle
(Yale University,New Haven,CT,06520)
,
Lee Minjoo Larry
(University of Illinois,Urbana-Champaign,IL,61801)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019 号： PVSC ページ： 3211-3214 発行年： 2019年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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