文献
J-GLOBAL ID:202002291976724723
整理番号:20A2549228
100keV N+イオン注入Kapton-Hポリイミドの電気的および構造的特性評価【JST・京大機械翻訳】
Electrical and structural characterization of 100 keV N+ ion implanted Kapton-H polyimide
著者 (3件):
Chhokkar Preeti
(Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra-136119, India)
,
Kumar V.
(Department of Physics, Institute of Integrated and Honors Studies (IIHS), Kurukshetra University, Kurukshetra-136119, India)
,
Kumar Shyam
(Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra-136119, India)
資料名:
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻:
2265
号:
1
ページ:
030198-030198-4
発行年:
2020年
JST資料番号:
D0071C
ISSN:
0094-243X
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)