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文献
J-GLOBAL ID：202002299556432479
整理番号：20A1524990
スパッタ蒸着非晶質SiGe膜の二重結晶化モード【JST・京大機械翻訳】
Dual crystallization modes of sputter-deposited amorphous SiGe films
Okugawa M.
(Division of Materials and Manufacturing Science, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan)
,
Nakamura R.
(Department of Materials Science, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University, Gakuen-cho 1-1, Naka-ku, Sakai 599-8531, Japan)
,
Numakura H.
(Department of Materials Science, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University, Gakuen-cho 1-1, Naka-ku, Sakai 599-8531, Japan)
,
Ishimaru M.
(Department of Materials Science and Engineering, Kyushu Institute of Technology, Tobata, Kitakyushu, Fukuoka 804-8550, Japan)
,
Yasuda H.
(Research Center for Ultra-High Voltage Electron Microscopy, Osaka University, Mihogaoka 7-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 128 号： 1 ページ： 015303-015303-9 発行年： 2020年
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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