文献
J-GLOBAL ID:202102211337049890
整理番号:21A0894851
商用鋳造工場で製造された2.3kV,5A4H-SiC TiとNi JBS整流器:インプラント横方向ストラグルの影響【JST・京大機械翻訳】
2.3-kV, 5-A 4H-SiC Ti and Ni JBS Rectifiers manufactured in Commercial Foundry: Impact of Implant Lateral Straggle
著者 (3件):
Agarwal Aditi
(North Carolina State University,Department of Electrical and Computer Engineering,Raleigh,NC,USA)
,
Han Kijeong
(North Carolina State University,Department of Electrical and Computer Engineering,Raleigh,NC,USA)
,
Baliga B. Jayant
(North Carolina State University,Department of Electrical and Computer Engineering,Raleigh,NC,USA)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
WiPDA Asia
ページ:
1-6
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)