文献
J-GLOBAL ID:202102219127772051
整理番号:21A0149913
ウエハホットスポットプリプションと検証のための正確なマスクモデルアプローチ【JST・京大機械翻訳】
Accurate Mask Model Approaches for Wafer Hot Spot Prepdition and Verificaition
著者 (6件):
Ham Young
(R&D, Photronics Inc.,Boise,Idaho,US,83717)
,
Lu Colbert
(Photronics DNP Mask Corporation (PDMC) Inc.,Hsin-Chu City,Taiwan, R.O.C.)
,
Lee HJ
(Photronics DNP Mask Corporation (PDMC) Inc.,Hsin-Chu City,Taiwan, R.O.C.)
,
Ramadan Mohamed
(R&D, Photronics Inc.,Boise,Idaho,US,83717)
,
Green Michael
(R&D, Photronics Inc.,Boise,Idaho,US,83717)
,
Progler Chris
(R&D, Photronics Inc.,Boise,Idaho,US,83717)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
CSTIC
ページ:
1-3
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)